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產(chǎn)品展示/ Product display

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光觸媒研磨分散機

光觸媒研磨分散機,應對納米級物料的分散,研發(fā)出新型設備,高剪切研磨分散機,將膠體磨和分散機一體化的設備,納米級漿料進(jìn)入研磨分散后,行研磨將團聚體打開(kāi),然后再經(jīng)過(guò)分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團聚。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-07-09
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:140
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詳細介紹

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光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱(chēng)。在所有的光觸媒材料中,納米TiO2不僅具有很高的光催化活性,且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無(wú)毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性?xún)r(jià)比,因而市場(chǎng)上大多使用納米二氧化鈦作為主要原材料。


對于納米級物料的分散,容易出現團聚的現象,納米二氧化鈦的分散也不例外。團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過(guò)程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩定狀態(tài),因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團聚,形成團聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個(gè)顆粒內部有細小孔隙。


納米顆粒的團聚一般分為兩種:軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理,人們的看法比較*,即,軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過(guò)一些化學(xué)作用或施加機械能的方式來(lái)消除。

 光觸媒研磨分散機

光觸媒研磨分散機,SGN高剪切研磨分散機是納米物料分散設備中*,在多個(gè)領(lǐng)域的納米分散中都有著(zhù)突出的應用。如:納米二氧化鈦、納米二氧化硅、石墨烯、碳納米管、納米樹(shù)脂、納米涂料等!


SGN研磨分散機是高剪切膠體磨+高剪切分散機的設備,將兩者一體化,解決了時(shí)間差的問(wèn)題,因為物料團聚是一個(gè)瞬間的過(guò)程,研磨后立即分散,效果好,效率高。


GMD2000系列研磨分散設備是SGN公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)。

光觸媒研磨分散機


SGN化工研磨分散設備選型表:

研磨分散機

流量*

輸出

線(xiàn)速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD 2000/4

300

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1000

10,500

44

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

3000

7,300

44

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

8000

4,900

44

37

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

44

55

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

2,000

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。

         
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