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環(huán)氧樹(shù)脂改性的意義及改性環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機的相關(guān)介紹
2022-01-20產(chǎn)品展示/ Product display
進(jìn)口研磨分散機采用設備技術(shù),將高剪切膠體磨和高剪切分散機合二為一,先研磨后分散機。研磨分散機轉速可達14000rpm,*研磨分散能力,配置高精密度的進(jìn)口伯格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的情況下,可24小時(shí)連續運行。
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進(jìn)口研磨分散機,進(jìn)口研磨機,進(jìn)口分散機,進(jìn)口研磨分散機采用設備技術(shù),將高剪切膠體磨和高剪切分散機合二為一,先研磨后分散機。研磨分散機轉速可達14000rpm,*研磨分散能力,配置高精密度的進(jìn)口伯格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的情況下,可24小時(shí)連續運行。
對于納米級物料的分散具有*的優(yōu)勢,對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn),納米分散存在著(zhù)難以解決的問(wèn)題,納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SGN研發(fā)出新型設備-研磨分散機,應對納米物質(zhì)的分散問(wèn)題。并有著(zhù)廣泛的實(shí)例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SGN研磨分散機進(jìn)行分散處理,*。
GMD2000系列研磨分散設備是公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
進(jìn)口SGN研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。
GMD2000系列研磨分散設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線(xiàn)速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
的特點(diǎn)
① 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨。
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
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