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產(chǎn)品展示/ Product display

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納米氫氧化鎂分散機

納米氫氧化鎂分散機,SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機,是由膠體磨+高剪切分散機組成,形成一體化的設備,先研磨后分散,避免物料團聚。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000/4
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-07-01
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:104
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詳細介紹

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氫氧化鎂是塑料、橡膠制品優(yōu)良的阻燃劑。在環(huán)保方面作為煙道氣脫硫劑,可代替燒堿和石灰作為含酸廢水的中和劑。亦用作油品添加劑,起到防腐和脫硫作用。另外,還可用于電子行業(yè)、醫藥、砂糖的精制,作保溫材料以及制造其他鎂鹽產(chǎn)


在幾乎不影響使用強度的情況下顯著(zhù)提高材料的阻燃、抑煙、防滴等性能,還可根據客戶(hù)需要,在納米氫氧化鎂生成同時(shí)采用適當的原位改性方法,為阻燃氫氧化鎂。

納米氫氧化鎂分散機

納米氫氧化鎂一般作為改性劑分散到某物質(zhì)當中(如橡膠),從而改性物料的特性,zui大的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級的粉末分散到液體介質(zhì)當中容易出現團聚現象,一般的分散設備無(wú)法解決這一難點(diǎn),而SGN研磨式分散機可以很好的應對團聚的現象。


SGN納米氫氧化鎂分散機,是由膠體磨+高剪切分散機組成,形成一體化的設備,先研磨后分散,避免物料團聚。


GMD2000系列研磨分散設備是公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)


GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。


第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

納米氫氧化鎂分散機

GMD2000系列研磨分散設備選型表


型號

流量

L/H

轉速

rpm

線(xiàn)速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125


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