一、產(chǎn)品名稱(chēng)關(guān)鍵詞：氧化鋁高剪切膠體磨,三氧化二鋁高速膠體磨,研磨分散機,實(shí)驗室小試膠體磨,18000rpm膠體磨

二、三氧化二鋁特性

Al2O3拋光液的缺點(diǎn)在于選擇性低、分散穩定性不好、易團聚等，但對于硬底材料藍寶石襯底等卻具有優(yōu)良的去除速率。不過(guò)，由于納米α-氧化鋁的硬度很高，因此拋光時(shí)易對工件表面造成嚴重的損傷；而且納米氧化鋁的表面能比較高，粒子易團聚，也會(huì )造成拋光工件的劃痕、凹坑等表面缺陷。近年來(lái)對氧化鋁拋光液的研究主要集中在納米磨料制備、氧化鋁顆粒表面改性、氧化鋁拋光液混合應用等方面。

三、常用的制備工藝

固相法。其中的硫酸鋁銨熱解法、改良拜爾法、爆炸法等是比較成熟的制備方法。固相法制備超細粉體的流程簡(jiǎn)單，無(wú)需溶劑，產(chǎn)率較高，但生成的粉體易產(chǎn)生團聚，且粒度不易控制，難以得到分布均勻的小粒徑的高質(zhì)量納米粉體。

氣相法。主要有化學(xué)氣相沉淀法，通過(guò)加熱等方式改變物質(zhì)形態(tài)，在氣體狀態(tài)下發(fā)生反應，之后在冷卻過(guò)程中形成顆粒。氣相法的優(yōu)點(diǎn)是反應條件可以控制、產(chǎn)物易精制，顆粒分散性好、粒徑小、分布窄，但產(chǎn)出率低，粉末難收集。

液相法。常見(jiàn)的有水解、噴霧干燥、溶膠凝膠、乳化等幾種方法。液相法的優(yōu)點(diǎn)體現在：可精確控制產(chǎn)物的化學(xué)組成，納米粒子的表面活性高，形狀容易控制分散均勻，生產(chǎn)成本比較低，容易實(shí)現工業(yè)化生產(chǎn)。

四、高剪切膠體磨應用于氧化鋁

高剪切膠體磨轉移因子膠體磨是專(zhuān)門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。XM2000的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料。

五、高剪切膠體磨
膠體磨XM2000系列特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，XM在摩擦狀態(tài)下工作，因此也被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉載和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口問(wèn)題，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散效果。XM2000整機采用幾何機構的研磨定轉子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種需求。

以下為型號表供參考：