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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD2000納米光觸媒二氧化鈦分散機

    納米光觸媒二氧化鈦分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉子區產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000氣硅光油高剪切研磨分散機

    氣硅光油高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉子區產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000阿昔洛韋結晶體研磨分散機

    阿昔洛韋結晶體研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉子區產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000納米氧化鉍高剪切分散機

    納米氧化鉍高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專(zhuān)門(mén)研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XRS2000生物農藥高剪切研磨分散機

    生物農藥高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉子區產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XRS2000復合碳材料高剪切分散機

    復合碳材料高剪切分散機研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專(zhuān)門(mén)研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000耐高溫碳化硅高速研磨分散機

    耐高溫碳化硅高速研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時(shí)在轉子區產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動(dòng)紊流。物料經(jīng)過(guò)數次循環(huán),完成分散過(guò)程。

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  • XMD2000銅導電油墨高剪切研磨分散機

    銅導電油墨高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專(zhuān)門(mén)研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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