納米氧化鈰分散機,氧化鈰分散機,納米分散機,納米氧化鈰分散機

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應的物質(zhì)的混合過(guò)程。工業(yè)分散的目標是在連續相中實(shí)現“令人滿(mǎn)意的”精細分布。 

納米氧化鈰或黃褐色助粉末。密度7．13g/cm3。熔點(diǎn)2397℃。不溶于水和堿，微溶于酸。在2000℃溫度和15Mpa壓力下，可用氫還原氧化鈰得到三氧化二鈰，溫度游離在2000℃間，壓力游離在5Mpa壓力時(shí)，氧化鈰呈微黃略帶紅色，還有粉紅色，其性能是做拋光材料、催化劑、催化劑載體（助劑）、紫外線(xiàn)吸收劑、燃料電池電解質(zhì)、汽車(chē)尾氣吸收劑、電子陶瓷等。

氧化劑。有機反應的催化劑。鋼鐵分析作稀土金屬標樣。氧化還原滴定分析。脫色玻璃。玻璃搪瓷遮光劑。耐熱合金。

用作玻璃工業(yè)添加劑，作板玻璃研磨材料，還可用在化妝品中起到抗紫外線(xiàn)作用。目前已擴大到眼鏡玻璃、光學(xué)透鏡、顯像管的研磨，起脫色、澄清、玻璃的紫外線(xiàn)和電子線(xiàn)的吸收等作用。

納米氧化鈰粉體 

團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過(guò)程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩定狀態(tài)，因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團聚，形成團聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個(gè)顆粒內部有細小孔隙。

納米顆粒的團聚一般分為兩種：軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理，人們的看法比較*，即，軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過(guò)一些化學(xué)作用或施加機械能的方式來(lái)消除。對于硬團聚，不同化學(xué)組成不同制備方法有不同的團聚機理，無(wú)法用統一的理論來(lái)解釋。因此需要采取一些特殊的方法來(lái)對其進(jìn)行控制。

納米氧化鈰分散的解決辦法  

分散相在外力（重力或離心力）作用下，在連續相中上浮或下沉的結果。在忽略布朗運動(dòng)效應的靜態(tài)條件下，可用Stokes 定律來(lái)描述，即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定：

式中ρs -ρ為分散相與連續相的密度差，g 為重力加速度，d 為分散相顆粒直徑，μ為連續相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續相密度大，顆粒下沉，速度 V 為正值，反之，顆粒上浮，速度為負值。沉降速度大，漿料就容易分層。如果要保持體系穩定，就必須降低沉降速度，對于特定的漿料可以通過(guò)減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續相液體分子大小時(shí)，顆粒才能穩定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。

通過(guò)以上的分析我們可以看出，要提高懸浮液的穩定性，分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出，根據前人所做的大量研究發(fā)現，隨著(zhù)顆粒粒度的減小，雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩?，但是由于顆粒之間的間距減小，顆粒之間的結合力（范德華力等）起到了重要決定性作用。另外，當顆粒直徑小于某一細小尺寸時(shí)，此時(shí)，顆粒的布朗運動(dòng)效應就不能忽略了，所以由于細小顆粒的布朗運動(dòng)，而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩定劑，這些情況都會(huì )導致顆粒團聚，對體系的穩定是不利的。所以漿料的分散中，顆粒粒徑并非越細越好，要視漿料的特性而定。分散就是要根據物料的特性與特點(diǎn)，減小分散相顆粒的粒度，使其分布于一個(gè)較窄的尺寸范圍，并達到吸力與斥力的相互平衡，從而保證漿料體系的穩定。

影響分散乳化結果的因素有以下幾點(diǎn)

1 分散頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線(xiàn)速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉子的線(xiàn)速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60

高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在XMD2000系列的基礎上又開(kāi)發(fā)出XMD2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過(guò)200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專(zhuān)門(mén)研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

2、設備特點(diǎn)

⑴     XRS設備與傳統設備相比：

高效、節能

傳統設備需8小時(shí)的分散加工過(guò)程，XRS設備1小時(shí)左右完成，超細分散*，能耗極大降低；

高速、高品質(zhì)

傳統設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉，帶分散功能的轉速每分鐘1500轉以?xún)?，只完成宏觀(guān)分散加工，超細分散能力極為有限；XRS設備的轉速每分鐘10000～15000轉之間，超高線(xiàn)速度產(chǎn)生的剪切力，瞬間超細分散漿料中的粉體。

⑵XRS設備與同類(lèi)設備相比：

多層多向剪切分散

同類(lèi)設備的定轉子等部件結構單一，多級多層的結構是單純重復性加工，相同的齒槽結構易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現象；

XRS設備的定轉子結構采用多層多向剪切概念，裝配式結構使物料得到不同方向剪切分散，杜絕了短路現象，超細分散更為*。